等离子去胶机的长处是去胶操作简练，去胶速率高，外表清洁润滑，无划痕，本钱低价，环保。操作办法是将反响室中的压力保持在1.3-13pa，在真空室中的两个电极之间扩展平行气流方向，即将去除的膜刺进到带有适量氧气的石英舟中，然后添加高频功率。电极之间会发生薰衣草辉光放电。经过调整功率，流量和其他工艺参数，能够得到不同的除胶率。清洁胶膜后，辉光消逝。用于等离子去胶机的气体是氧气，去除硅晶片上的聚酰亚胺膜的作业原理很简练，即活性氧能够迅速将聚酰亚胺膜氧化成挥发性气体，经过机械泵将其抽走。具体办法是将少数氧气引进真空反响体系。放置在石英管中的硅芯片的高频信号由具有1500v高压的高频信号发生器发生。最大的意图是构成强电磁场以使氧气电离。等离子体的辉光柱，包含氧离子，活化的氧原子，氧分子和电子的混合物。等离子去胶机一般运用电容耦合等离子体平行板反响器。在平行电极反响器中，反响离子刻蚀腔采用阴极面积小，阳极面积大的不对称规划，被刻蚀物放置在面积小的电极上。在射频电源发生的热运动效果下，带负电荷的自由电子因为质量小，移动速度快而速度抵达阴极。而正离子因为质量大，速度慢而不能一起抵达阴极，从而在阴极四周构成带负电的鞘。在护套的加快下，正离子笔直炮击硅晶片的外表，以促进外表上的化学反响和反响产品的别离，因而导致高蚀刻速率。等离子去胶机的离子炮击还使得能够有用的进行各向异性蚀刻以完成等离子去胶机和等离子体蚀刻的相同原理。不同之处在于反响气体的类型和等离子体的激起办法。

  主动点胶机、喷胶机、测试机及程控电源的加工出产项目环境影响陈述表环评陈述

  年加工出产点胶机40台、挤出机30台、配胶机60台、地道炉20台项目环境影响陈述表环评陈述