半导体核心设备主要有光刻机、等离子体刻蚀机、薄膜设备与测试设备四大类。其中，刻蚀机的重要性仅次于光刻机，已经占到工厂设备成本超30%。

  并且，刻蚀机是我国国产化率最高的设备之一，国产化率已达到了20%；而国内芯片生产线%左右。刻蚀机慢慢的变成了光刻机崛起的榜样。

  国产刻蚀机崛起的背后，中微公司起了很大的功劳。中微公司慢慢的变成了我国规模最大，且技术最为领先的刻蚀设备供应商。

  在2015年之前，美国在等离子体刻蚀设备上，一直对我国实行出口管制。但在2015年时，美国解除了这一管制。原因是，中微公司实现了与美企同等质量的等离子体刻蚀设备的量产，这让美国察觉到危机。

  如今，中微公司的刻蚀设备更是成功进入5nm集成电路加工制造与先进封装生产线。这表明，中微公司的技术实力已经走到了全球领先的位置。

  为何中微公司能取得如今的成就？在9月15日举行的公开演讲中，中微公司创始人尹志尧亲自来了解答。

  尹志尧对中微公司在产品研究开发、战略和商务、运营管理和精神文化四大方面，共总结了四个十大原则。

  在产品开发的十大原则中，尹志尧提到了设备开发要追求高输出、低成本、低消耗、高利润；技术创新、设备差异化、IP保护；容易制造与容易维护等诸多开发原则。

  只有做到以上原则，研制出来的产品才能做到能用、好用，才能有突出重围的可能性。其中，尹志尧尤其强调产品开发不能只跟着外国人的设计。

  若是一直跟着别人的脚步前行，那将很难实现超越与突破，因此，企业要学会自主创新。为此，中微公司在成立之初便提出新的等离子源概念，使新型刻蚀机拥有出众的性能。

  尹志尧提出的战略与运营方式的十大原则，也有必要注意一下。目前，中微公司正在实行三维市场与产品发展、有机生产与外延扩展等多项战略，都十分值得借鉴。

  三维市场战略强调多元化发展，这样子就能够降低公司运营风险，中微公司的三维分别为集成电路设备、泛半导体设备与非加工设施。同时，设备的开发要以客户、市场为导向；要面向更广大的国际市场；要学会与其他优秀厂商的合作，不能闷头干。

  在这十条原则之中，全员持股的股权期权激励制度需要我们来关注。中微公司采用的员工期权激励与全员持股的模式，能有效激励员工的创造积极性。

  正是在以上几大原则的指引之下，中微公司才有如今的成就，就连台积电也要用上中微公司的刻蚀设备，靠着硬核技术实现了对台积电的“驯服”。返回搜狐，查看更加多