近来，中微半导体董事长尹志尧博士泄漏，公司研制的等离子刻蚀设备已确认进入客户的5nm生产线。同时中微公司官方也在互动渠道上证明了这一说法。

  要知道其时全球芯片制作最先进的工艺便是5nm，也就从另一方面代表着国产刻蚀机，已到达了世界最先进的水平。

  比较于其它拉胯的国产半导体设备，国产刻蚀机，可以说是真实的一骑绝尘。由于其它的国产半导体设备，大多还在28nm，有些到达了14nm，更难以想象的是更落后的，还处在90nm。但全体看来，除了刻蚀机外，就没有进入10nm及以下工艺的设备。

  为何国产刻蚀机这么强？这要从中微半导体的创始人尹志尧博士说起。尹志尧博士在创建中微半导体之前，先后在英特尔、泛林、运用资料等半导体职业的世界巨子作业。

  关于芯片制作、半导体设备等技能适当的了解和了解，并且在硅谷打拼的20多年，尹志尧个人在半导体职业具有86项美国专利和200多项各国专利，被誉为“硅谷最有成果的华人之一”。

  特别是最终作业的运用资料，自身便是全球排名榜首的半导体设备厂商，最拿手的便是刻蚀设备，另外在堆积、离子注入、CMP、匀胶显影等范畴也具有领先地位。

  所以说尹志尧博士，自身在半导体范畴就有着深沉的堆集，再加上他在2004年回国创业时，带回了15名专业海归精英，一同兴办了中微半导体。在其时，这件工作还震动了硅谷。

  有经历，有人才，再加上有技能，所以中微半导体的发展十分敏捷，2004年兴办，2007年就研制出了榜首代介质刻蚀机，并且是初次选用可单立操作的双反响台，功率乃至比国外同种类型的产品还要高30%。

  而借着双反响台，中微半导体也是一炮而红，再加上技能不输于国外产品，所以也得到了一些芯片厂商的运用，比方台积电就一向有收购中微半导体的刻蚀机。

  惋惜在芯片制作范畴，一种设备先进没有用，究竟需求的设备几十上百种，芯片制作不遵从长板理论，像一只水桶相同，是遵从短板理论的。

  所以目前国内芯片制作水平，不跟着刻蚀机的5nm工艺走，而是跟着其它落后设备走的，真是惋惜，要是其它半导体设备都像国产刻蚀机相同，到达5nm，那该多好啊。