众所周知，这一两年我国芯的开展遭到了空前的重视，所以制作芯片的我国企业，以及国产的半导体设备也是遭到空前的重视，由于限制咱们芯片开展的不仅是技能，还有各式各样的半导体设备。

  而在这些半导体设备之上，光刻机或许是最受重视的设备了，由于现在我国离世界领先水平差得实在太远了，像最强的ASML光刻机可用于5nm的芯片制作了，而我国产的还在90nm水平，差了至少是10年以上。

  当然，在芯片制作的完好过程中，还有一种设备被人常常和光刻机搞混，那就是刻蚀机。很多人都把这两种机器相提并论，其实并不是的，两种设备的效果好像有点相反，光刻机用来在硅晶圆上描写电路图，而刻蚀机则是把没描写电路图的晶圆去掉。

  这两种设备在芯片制作中，都很重要，仅仅由于国产的刻蚀机水平完全是世界领先的，早已摆脱了对国外厂商的依靠，所以我们提得相以较少罢了。

  近来，中微半导体CEO尹志尧博士表明，现在中微出产的5nm刻蚀机（用于5nm工艺的等离子蚀刻机）现已通过了台积电的验证，下一年将正式用于台积电5nm芯片的出产之中了。

  而这样的刻蚀机也不廉价，一台几百万美元，按网上的说法，这样的一台5nm的刻蚀机，一台要卖3000多万。

  而下一年5nm芯片将会是谁，台积电最大的客户是苹果，5nm的芯片将会是A14，其次是华为，5nm芯片将会是麒麟1020(暂命名)，或许还会有高通、AMD等客户。

  关于这样一家公司，这样的国产刻蚀机，不知道我们是怎样的感触，我想说的是期望这样的企业在我国越多越好，只要这种把握中心科技的企业多了，我国的芯片才干全面兴起。

  接下来就看国产光刻机的了，一旦刻蚀机有了，光刻机有了，那整个半导体设备范畴，对国外的依靠性就不那么强了，你觉得呢？

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