用pvatepla等离子体清洗和等离子体去胶技能,其间GIGAbatch 310M是***小的批量晶圆等离子体处理机,很合适实验室和大学运用。

  批量晶圆等离子体清洗机原理等离子体处理体系都遵从相同的等离子体发生原理：直接耦合真空室中大气侧的高频鼓励。进气口坐落腔室的一侧，真空吸盘坐落腔室的另一侧。这种腔室几许结构完成了特别一起的工艺成果。批量晶圆等离子体清洗机运用***新一代处理器、依据Linux的渠道作为操作体系，以及图形用户界面（GUI）。因而，能够手动和全自动操控工艺，并经过MFC操控工艺气体。在这样的一个进程中，一切参数都会写入配方并存储在数据库中。一起，压力、气体流量、输出等的当时值显现在显现屏上，假如违背目标值，则会触发相应的警报。

  等离子体去胶机用等离子体除胶清洗清洁功能为晶圆去胶供给晶圆去胶机。等离子体去胶机360M有一个直径为245毫米的加工室，可包容多达50个直径为150毫米的晶圆。等离子体去胶机380M腔室的内径为300mm,合适25个直径为200mm的晶圆一起批量去胶清洁。等离子体去胶机根本版本是一种带有涂漆镶板、可调理脚和脚轮的落地式设备。它有一个输出功率为1000W的发电机、两个MFC气体管道、晶片温度监测和端点检测体系。此外，还包含用于固定晶圆和基板的设备。它设备在室内舱门上，并依据各自的客户真实的需求进行规划。等离子体去胶机可选配项目进程压力自动操控设备（DSC）法拉第笼附加气体管道不一样的尺度基板或晶圆的加载设备陶瓷加工室含氟工艺气体操作专用密封

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