中微公司首台8英寸CCP刻蚀机PrimoAD-RIE200付运
时间: 2024-01-23 11:26:20 | 作者: 产品展示
产品介绍
6月15日,中微公司首台 8 英寸甚高频去耦合反应离子(CCP)刻蚀设备 Primo AD-RIE 200 顺利付运客户生产线。
据悉,Primo AD-RIE 200 是中微公司自主研发的新一代 8 英寸甚高频去耦合反应离子(CCP)刻蚀设备。基于已被业界广泛认可的 12 英寸 CCP 刻蚀设备的成熟工艺与特性,Primo AD-RIE 200 在技术创新和生产效率方面都有了逐步提升,能够很好的满足不同客户 8 英寸晶圆的加工需求。
为提高生产效率,Primo AD-RIE 200 刻蚀设备可灵活配置多达三个双反应台反应腔(即六个反应台)。此外,Primo AD-RIE 200 提供了可升级至 12 英寸刻蚀设备系统的灵活解决方案,以实现用户生产线未来可能扩产的需求。
据了解,中微公司Primo nanova®产品已成功进入海内外十余家客户的晶圆生产线,在领先的逻辑芯片、DRAM 和3D NAND厂商的生产线上实现大规模量产。依据公司业绩说明会材料,ICP刻蚀市场规模76亿美元,而CCP刻蚀市场规模仅为48亿美元。
此前,中微公司第100腔Primo nanova®刻蚀设备的顺利交付,是公司ICP刻蚀产品业务发展新的里程碑,标志着刻蚀产品发展迈入新的阶段。
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天眼查显示,上海理想万里晖薄膜设备有限公司(理想万里晖)日前发生工商变更,理想能源设备(上海)有限公司退出股东行列,新增中微半导体设备(上海)股份有限公司(中微公司)等股东。另外,该公司的注册资本由8455.3348万人民币增至1.46亿人民币,增幅为73.17%。 图源:天眼查 据悉,中微公司的持股比例微3.85%,出资563.689万元。 公开资料显示,理想万里晖于2013年5月21日在自贸区市场监督管理局登记成立。法定代表人孙曦东,公司营业范围包括薄膜、光伏电池、平板显示屏生产专用设备的研究等。 中微公司是我国集成电路设备行业的领先企业,目前开发的产品以集成电路前道生产的等离子体刻蚀设备、薄膜沉积设备等关键设备为主,并已
入股了半导体设备商理想万里晖 /
2月24日晚,中微公司发布了2020年全年业绩快报。报告期内,该公司实现营业收入22.73亿元,较上年同期增长16.76%; 归属于母企业所有者的纯利润是4.92亿元,较上年同期增长161.02%;归属于母企业所有者的扣除非经常性损益的纯利润是2331.94万元,较上年同期减少84.19%。 对于去年全年业绩出现的变化,中微公司表示,报告期内公司营收增长主要是得益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势,公司2020年刻蚀设备收入为12.89 亿元,同比增长约58.49%。不过由于市场原因,该公司2020年MOCVD设备收入为4.96 亿元,同比下降约34.47%。 另一方面,中微公司2020年投资青岛聚源芯星股权投资合伙企业(有
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