产品介绍

  等离子清洗是一种干法物理化学清洗技能。它是运用低真空状态下工艺气体因电场的作用，发生辉光放电，将工艺气体电离成离子流，炮击工件外表，使其发生物理化学反响，到达清洗意图。等离子清洗机按其等离子激起频率可分为:中频(40KHz)、高频(13.56MHz)和微波(2.45GHz)三种等离子清洗机，随频率的升高，离子浓度增大，离子能量下降。

  中频40KHz等离子清洗机首要运用在于污染较重，且不易遭到损害的元件(如外壳、成膜基板、焊片等)，其间首要是离子的物理碰击作用(物理清洗)，化学洗刷作用其次。微波等离子清洗机首要运用在于灵敏器材(半导体芯片，特别是微波器材)，这时首要是离子化学反响，而13.56MHz射频等离子清洗机的使用则介于上述两者之间，兼具化学和物理清洗。

  13.56MHz射频等离子清洗机与40KHz中频等离子清洗机的差异如下:

  现在市道所售的等离子清洗机有低频放电方法，频率为40KHZ，低频放电契合辉光放电的特性，与射频放电比较，电流很小，不存在阻抗匹配的问题，结构相对比较简单，多为电容耦合结构，因而电极的二次污染问题依然存在。

  高频放电的频率一般为10M~100MHz，这一频率归于无线电频谱规模，因而又称为射频(RF)放电，依据世界通用的规矩射频放电的频率为13.56MHz。射频放电能发生和保持高密度、接连、均匀的等离子体，高频放电时，因为频率很高，带电粒子在电场周期内还未运动到极板，电场就发生了改动，带电粒子在电场作用下向反方向移动，如此往复构成振动，因为粒子的运动行程很长，增加了与气体分子磕碰的机率，电离度比直流辉光放电高出几个数量级，还能够在较低的电压下保持。射频放电在较高和较低的气压下都能放电。

  1. 较低的气压条件下仍能放电，放电保持能量低，因为带电粒子在极间做往复运动，大幅度提升了电离机率，因而在较低的气压条件下仍能够保持放电，构成安稳的等离子体，最低压强可达10-1Pa.

  综上所述40KHz中频等离子清洗机的作用首要为物理碰击反响，其碰击力度大，对被清洗外表影响最大;

  13.56MHz射频等离子清洗机首要为物理加化学反响(需求选用氧气、氢气、氩气等气体，如选用独自氩气则为独自物理反响)，其碰击力度适中，能够去除零件外表残留的尘埃，一般氧化层等杂质。

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