产品介绍

  。从上一年国庆节后美国对高端3D NAND芯片、DRAM内存芯片的管控，到上个月荷兰宣告将对包含先进的

  而在出口控制的半导体设备中，除了最重要的、金字塔尖的光刻机，刻蚀设备也受出资者广泛重视。刻蚀，听起来巨大上，实际上的意思便是雕琢芯片的精准手术刀，使用化学或许物理的办法将晶圆外表附着的不必要的原料进行去除的进程。

  半导体设备的出资者们最近也迎来了团体狂欢，国内刻蚀设备的龙头中微公司（688012）一天就上涨了12%。并且从其上一年的成绩体现来看，经营收入和归母净利润别离同比增加了52%和16%，背面的原因之一便是刻蚀设备的量价齐升。

  上一年，中微公司刻蚀设备共出售441腔，在世界5nm及以下产线完结屡次批量出售，毛利率高达47%，比较于传统的制造业，不知道要高到哪里去了。

  除了龙头，光驰半导体出资的半导体原子层镀膜与刻蚀设备项目（出资超越五亿元）一期也现已完结了封顶，建成后将具有5台刻蚀机的产能。

  但实际上，没有比照就没有损伤，需求泼一盆冷水的是，国内玩家的刻蚀设备市占率总和还不到5%。可谓任重而道远。

  在集成电路的制造的完好进程中，光刻和刻蚀肯定是归于重复性最多、使用最广的两道工艺，刻蚀设备的价值占整个生产线%。

  90%的商场，远远把湿法甩在了后边。干法刻蚀机又可大致分为CCP刻蚀机（电容性耦合）、ICP刻蚀机（电理性耦合）两条路线。

  46%。底子原因是作为周期性职业，在阅历了2019年工业的全体萎缩后，跟着下流消费电子的需求渐渐地回暖，工业渐渐的呈现回弹，所以呈现出较高增加。估计未来三年，刻蚀设备的增速将略高于设备全体的增速规划。

  全新选择性刻蚀设备，应该很快将用于3D DRAM等先进存储器使用程序的开发，助力整个工业向着“更快更强”进发。

  5nm的刻蚀机技能，已完结超100多个ICP的工艺验证，现在也处于放量期。

  依靠进口。尽管说刻蚀机自身能完结大制程的国产代替，可是一方面，上游的零部件仍有几率会成为被“卡脖子”的目标，这也需求上游零部件玩家的共同努力，另一方面，用于存储元件立体堆叠的刻蚀设备等仍成为发达国家进行出口控制的重点目标。