中科光智请求微波等离子清洗设备等专利提高芯片良率

时间: 2025-01-07 19:43:47 |   作者: 行业应用

  金融界2024年10月22日音讯,国家知识产权局信息数据显现,中科光智(重庆)科技有限公司请求一项名为“一种微波等离子清洗设备、贴片机及贴片工艺”的专利,公开号 CN 118788690 A,请求日期为2024年9月。

  专利摘要显现,本发明公开了一种微波等离子清洗设备、贴片机及贴片工艺包含,微波发生源、惰性气体存储组件和与所述微波发生源经过管道连通的等离子离化组件;其间,微波发生源用于发生微波,所述惰性气体存储组件与所述等离子离化组件连通,等离子离化组件包含壳体、喷头和设备在所述壳体内的等离子体发生单元,喷头与惰性气存储组件连通,所述等离子体发生单元用于合作来自微波发生源的微波然后激起所述喷头发生等离子体。本发明将微波等离子清洗功用结合到了贴片机中,可以尽可能的减轻焊层的氧化,本发明经过在贴片机中添加了微波等离子清洗设备然后可以改进焊层的氧化因而可以提高贴片的质量,从而提高芯片的功能,添加芯片良率。

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