等离子清洗机显著的特点是高均匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光，材料处理温度接近室温。这些高度活跃微粒子和处理的表面发生作用，得到了表面亲水性、拒水性、低摩擦、高度清洁、激活、蚀刻等各种表面改性。

  上述作用离子直接和处理物表面外层10 到1000A 厚度起作用，不影响材料其本身性能。

  1.环保技术：等离子体作用过程是气- 固相干式反应 ,不消耗水资源、不需要添加化学药剂,对环境无污染。

  2.广适性：不分处理对象的基材类型,均可做处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗改性。

  3.温度低：接近常温，特别适于高分子材料，比电晕和火焰方法有较长保存时间和较高表面张力。

  4.功能强：仅涉及高分子材料浅表面（10 -1000A ），可在保持材料自身特性的同时，赋予其一种或多种新的功能；

  5.低成本：装置简单，易操作维修，可连续运行，往往几瓶气体就能代替数千公斤清洗液,因此清洗成本会大大低于湿法清洗。

  7.等离子清洗机处理物几何形状无限制：大或小，简单或复杂，部件或纺织品，均可处理。

  常用的等离子体激发频率有三种：激发频率为 40kHz的等离子体为超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离子体，2.45GHz的等离子体为微波等离子体。

  不同等离子体产生的自偏压不一样，超声等离子体的自偏压为1000V左右，射频等离子体的自偏压为250V左右，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏，而且三种等离子体的机制不同。超声等离子体发生的反应为物理反应，射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应，微波等离子体发生的反应为化学反应。超声等离子体清洗对被清洁表面产生的影响大，因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗机和微波等离子体清洗机。

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